箔式高阻值低压锰铜压阻应力计的设计及动态标定

箔式高阻值低压锰铜压阻应力计的设计及动态标定

段卓平, 关智勇, 黄正平

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2021-08期封面[J]. 爆炸与冲击, 2021, 41(8): 1-1.

引用本文:

段卓平, 关智勇, 黄正平. 箔式高阻值低压锰铜压阻应力计的设计及动态标定[J]. 爆炸与冲击, 2002, 22(2): 169-173. doi: 10.11883/1001-1455(2002)02-0169-5

2021-08期封面[J]. 爆炸与冲击, 2021, 41(8): 1-1.

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段卓平, 关智勇, 黄正平. 箔式高阻值低压锰铜压阻应力计的设计及动态标定[J]. 爆炸与冲击, 2002, 22(2): 169-173. doi: 10.11883/1001-1455(2002)02-0169-5

箔式高阻值低压锰铜压阻应力计的设计及动态标定

doi: 10.11883/1001-1455(2002)02-0169-5

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出版历程
- 刊出日期: 2002-04-01

摘要: 设计了低压锰铜压阻传感器 ,并通过平板撞击实验标定了该传感器在 0 .3～ 9.4GPa范围内的压阻关系。标定曲线在 0 .3～ 1.5GPa范围内是线性的 ,对应的是传感器的弹性状态 ,而在 1.5～ 9.4GPa范围内是二次曲线。标定曲线的拐点在 1.5GPa附近 ,这与理论分析和他人的实验结果相接近。

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